Наименование единицы оборудования | Марка | Фирма-изготовитель | Назначение/Характеристики |
---|---|---|---|
Гидродинамический стенд для изучения струйных течений | ИТ СО РАН | Предназначен для изучения гидродинамики и массообмена в ограниченных струйных течениях. Диапазон чисед Рейнольдса – до 100,000, термостабилизация, автоматическое поддержание постоянства расхода. Стенд оснащен методами PIV/LIF, ЛДА | |
Комплекс установок для изучения пленочных течений | ИТ СО РАН | Стенд содержит несколько рабочих участков для моделирования неизотермических пленок жидкости – как элементов охлаждающего и массообменного оборудования для хим. технологии, микроэлектроники, пищевой промышленности. Оснащен методами: теневым, локальной электропроводности, емкостным, LIF и др. | |
Микроскоп Carl Zeiss Axio Observer Z1 с системой измерения полей скорости в микроканалах | Carl Zeiss, ИТ СО РАН | ||
Гидродинамический стенд для изучения кавитационных процессов с комплектом измерительного оборудования | ИТ СО РАН | Представляет собой замкнутый гидродинамический контур с обращенным движением рабочей жидкости. Стенд оснащен двумя центробежными насосами Grundfos NВ 150 мощностью 18,5 кВт ультразвуковым расходомером и датчиками давления. Общие габариты кавитационной трубы: длина – 8,3 м, высота – 2,2 м, ширина – 1,1 м. Рабочая часть трубы состоит из теплообменника с постоянной подачей охлаждающей воды, системой регулирования статического давления в контуре трубы, хоннейкомба, конфузора со степенью поджатия 16, и рабочего участка, представляющего собой канал прямоугольного поперечного сечения 80×250 мм длиной 1,3 м с плоскими параллельными боковыми стенками. Боковые стенки рабочего участка снабжены смотровыми окнами, позволяющими вести визуальные наблюдения. Обратный канал состоит из поворотного колена (на 180 градусов), прямого трубопровода диаметром 300 мм, расходомерного участка и трубопровода, обеспечивающего подвод жидкости к насосной группе. Максимальный суммарный расход жидкости по контуру составляет 1100 м3/ч, что соответствует максимальной среднерасходной скорости для рабочего канала с поперечным сечением 80×250 мм – 15,3 м/с | |
Стенд для моделирования газокапельных струйных течений и испытания форсунок | АС-35 | Сигма-Про | |
Измеритель мгновенных полей скорости (PIV/Stereo PIV) | ПОЛИС | Позволяет измерять мгновенные поля скорости жидкости и газа с разрешением до 170х128 векторов. Максимальная частота измерений - 3Гц. Диапазон измеряемых скоростей – от 0.1 мм/сек до 1500 м/сек. | |
Газоанализатор Hiden Analytical | QIC-20 | Hiden analytical | Масс-спектрометры с динамическим вводом пробы для количественного газового анализа для исследований реакций, промышленных применений, анализа загрязнения окружающей среды, измерения состава газовых смесей. Hiden HPR-20 предназначена для непрерывного измерения газового состава в диапазоне вплоть до атмосферного давления. Отличительные особенности - высокая чувствительность и стабильность вместе с широким динамическим диапазоном. Отбор проб – 1-20см3/мин при давлениях 10мбар – 2 бар. Чувствительность – 5ppb. Стабильность - +-0,5%. Время отклика <0,5 сек. |
Ультраскоростная цифровая камера Photron с высокочастотным лазерным источником импульсной подсветки Photonics | Fastcam SA-5, Photonics DM-532-50 | Photron, Photonics | Предназначена для регистрации бысропротекающих процессов, в том числе измерения полей скорости с высокой частотой повторения. Частота регистрации 7,5кГц при разрешении 1,2Мпикс |
Система измерения полей скорости в объеме потока (Tomo PIV) | ПОЛИС 3D | Сигма-Про | Измерение скорости в объеме потока на основе томографического метода анемометрии по изображениям частиц. Размер измерительной области – не более 100х100х50 мм. Характерная частота измерений – 1 Гц. Разрешение векторного поля – 1 вектор на 1мм3 |
Оборудование для анализа структуры многофазных потоков методами фазовой и лазерной доплеровской анемометрии (LDA/PDA) | 3D PDPA | TSI | |
Комплект оборудования для измерения полей концентрации в пламенах (LIF) | TDL+ Brilliant, Dicam Pro | Quantel, PCO | |
Цифровая камера с электронно-оптическим преобразователем второго поколения и пикосекундным затвором | PI-MAX | Princeton Instruments | |
Система регистрации трехмерных изображений на основе пленоптической камеры | Raytrix | Raytrix | |
Система высокоскоростного измерения скорости в объеме потока (Time resolved Tomo PIV) | ПОЛИС TR-Tomo | Сигма-Про | Результат измерения – мгновенное поле скорости. Частота измерения – до 20кГц |
Масс-спектрометр | EPR-60 | HIDEN | Для анализа состава газов, до 1000 а.е. |
Вакуумный стенд для получения композитных покрытий и исследования их свойств | «Алдаз» | ИТ СО РАН | Для синтеза углеродных покрытий газоструйным методом. Вакуумная камера, сверхзвуковое сопло, высоковакуумный насос, глубина вакуума в камере 10-4 мм рт. ст., относительное содержание метана в смеси 0,1–2,5 %, расход газа 50–80 см3/мин., давление в форкамере 10–50 мм рт. ст., диаметр сопла 100–500 мкм, температура: форкамеры 1000–15000С, нитей активатора 2000–21000С, поверхности образца 750–9500С. |
Стенд для исследования характеристик тлеющих и индукционных разрядов низкого давления | ИТ СО РАН | Для исследования индукционных разрядов низкого давления в различных газах (Ar, H2, N, He, CO2 и т.д.) с получением пленок на различных подложках. | |
Дилатометр | DIL-402/C | NETZSCH (Германия) | Измерение теплового расширения твердых тел до 1600ºС |
Установка для измерения теплопроводности, температуропроводности и теплоемкости диэлектрических жидкостей | «ТЕПЛО-2» | ИТ СО РАН | Интервал температур: -60…350°С; давления до 100 бар; погрешность – 1,5…2,0%. |
Измеритель температуро-проводности | FLA-427 | Gebrüder NETZSCH Maschinenfabrik Ges.m.b.H. & Co. KG Германия | Установка для исследования температуропроводности веществ и материалов. Интервал температур - 25…2000°С твердого состояния; интервал температуропроводности: 0,001...10 см2/с; погрешность – 2…5%. |
Установка для изготовления оптической нанокерамики из люминесцентных материалов в контролируемой атмосфере | AIP6-30H | American Isostatic Presses Inc. | |
Установка поликристаллического синтеза функциональных материалов в контролируемой атмосфере и при контролируемой температуре | |||
Установка для синтеза нанопорошков с контролируемым размером частиц от 50нм до 500нм | Parr 4683 | Parr Instruments | |
Высокоточный универсальный отрезной станок для резки кристаллов и керамики | Accutom-5 | Struers A/S | |
Лабораторная дисковая мельница | Pulverisette-13 | Fritch GmbH | |
Комплект оборудования для роста кристаллов низкоградиентным методом с индукцион | |||
Cканирующий зондовый микроскоп | Интегра Прима – HD | ||
Плазмохимическая установка | Предназначена для отработки плазмохимических технологий в газовой фазе. Оснащена мощной безмасляной откачной системой для работ с углеводородами, источниками плазмы, инициируемой в разряде и электронном пучке. Энергия электронов – до 60 кэВ, ток – до 1 А. В комплект входят: Оборудование для подготовки газовых смесей, Оборудование контроля системы водоснабжения, Насос безмасляный большой производительности для больших газовых нагрузок, Пирометр Optris LaserSight, Пушка электронно-лучевая ЭЛА-60В, Система защиты и бесперебойного питания, Система управления и контроля вакуума, Установка высоковакуумная масс-спектрометрическая с системами подачи газов и контроля параметров, безмасляной системой вакуумной откачки. | ||
Хроматомасс-спектрометр | QCMS-QP2010 Plus | Shimadzu Corp Japan. | Для качественного и количественного состава жидких и газовоздушных смесей, а также масс-спектрометрического анализа твёрдых веществ. Позволяет проводить разделение при высоких давлениях (до 970 кПа) и высоких скоростях потока газа-носителя (до 1200 мл/мин), в диапазоне масс 1.5 – 1090 m/z. Единый ионный источник используется для трёх типов ионизации: электронного удара, положительной и отрицательной химической ионизации. Чувствительность прибора (режим SCAN: 1 пг октафторнафталина (S/N>160)), режим SIM: 100 фг октафторнафталина (S/N>160)). Оснащен системой защиты и бесперебойного питания. |
Установка термоэлектрохимического оксидирования | УТЭХО 1 | Ником Россия | Установка предназначена для нанесения оксидных покрытий с высокой теплопроводностью и низкой электропроводностью. Включает комплект оборудования для питания и автоматизированного управления процессами ТЭХ-оксидирования. |
Микроскоп для лабораторных исследований | SteREO Discovery.V20 с принадлежностями | ZEISS | |
Оборудование для технологического участка производства высокочистых материалов – модуль синтеза под давлением | |||
Газодинамический стенд «КЛИУС» |
MSH-VM3- V1E-7-SV XDS35i YT790Z010 YT820Z020 |
MSH Techno, Ltd Edwards Ltd ЗАО «Научное оборудование» |
В составе:
|
Стенд Лэмпус-2 |
ТМР-303LM MSE - 2000A ПХМ COMPexPro 50 |
Shimadzu Coherent, Inc. |
Предназначен для получения и исследований Ван-дер-Ваальсовых комплексов и супрамолекулярных структур, плазмохимического синтеза различных атомарных и молекулярных структур, а также нанесения тонких пленок на подложки в вакууме. Оснащен высоковольтными источниками питания для электронно-пучковой диагностики, оптико-электронными системами регистрации, времяпролетным (1-5000 а.е.м.) и квадрупольными (1-1000 а.е.м. и 1-300 а.е.м.) масс-спектрометрами молекулярно-пучковой системы, пятью вакуумными камерами с дифференциальными безмасляными вакуумными (турбомолекулярными и криогенными) откачными системами на бустерный, глубокий и сверхглубокий вакуум. Так же в комплект входят: ЗИП (комплект), Источник электронов с плазменным катодом, Комплекс регистрации быстропротекающих плазмохимических процессов, Оборудование контроля системы водоснабжения, Оборудование импульсное газовое, Оборудование систем газоподачи и управления расходами газов, Пирометр Optris MS Plus, Пушка электронно-лучевая ЭЛА-60В, Системы защиты и бесперебойного питания, Система лазерной ионизации для времяпролетного масс-спектрометра, Система управления комплексом экспериментальных вакуумных стендов, Установка высоковакуумная масс-спектрометрическая с системами подачи газов и контроля параметров, безмасляной системой вакуумной откачки. |
Методики